Halbleiter aus Frankfurt

Mit "Halbleiter aus Frankfurt" habe ich den Versuch unternommen, die Geschichte des größten Industriebetriebes  der Stadt Frankfurt (Oder) möglichst umfassend in einem Buch festzuhalten.
Im ersten und zweiten Kapitel werden die Randbedingungen für den Aufbau DDR - Mikroelektronik und ihre Entwicklungsetappen dargestellt. In Kapitel 3 wird die technische, technologische und bauliche Entwicklung des Halbleiterwerkes von den 60er Jahren bis zur Wende geschildert. Dabei   werden auch die Lebens- und Arbeitsbedingungen der zuletzt 8500 Mitarbeiter und die sozialen Einrichtungen des HFO, wie die Betriebskindergärten und die Berufsschule,  nicht vergessen. Die Entwicklung der HF0-Nachfolgebetriebe MTG, HEG, SMI und SIMI / MD&D ist Gegenstand von Kapitel 4. Die kurze Geschichte des Projektes "Chipfabrik Communicant" folgt in Kapitel 5. Ergänzt wird diese Darstellung in Kapitel 7 durch eine kurze Historie der Halbleitertechnologie und in Kapitel 8 durch einen Anhang, u.a mit einer zeitlich chronologischen Darstellung wichtiger Ereignisse der HFO-Geschichte.






Kapitel 1

Schon 1953, also sechs Jahre nach der Entdeckung des Transistoreffekts durch Bardeen und Brattain am 16.12.47, begannen in DDR erste Forschungs- und Entwicklungsarbeiten zur Halbleitertechnologie im späteren Werk für Bauelemente der Nachrichtentechnik „Karl von Ossietzky“ Teltow. 1953 konnten dort die ersten funktionsfähigen Transistoren unter Laborbedingungen hergestellt werden. Die weitere Entwicklung des neuen Industriezweiges führte in den folgenden Jahrzehnten über solch wichtige Meilensteine wie die Gründung des Halbleiterwerkes Frankfurt (Oder) im Jahre 1959, den Aufbau des Institutes für Halbleitertechnik in Stahnsdorf (1960) und der Arbeitsstelle für Molekularelektronik in Dresden (1961), die Bildung des Kombinates Halbleiterwerk Frankfurt (Oder) im Jahre 1969 und des Kombinates Mikroelektronik Erfurt (1978) bis hin zu den propagandistisch vermarkteten ersten Mustern des 1Mbit-Speichers im Jahre 1988. 

Die Mikroelektronik wurde in der DDR also frühzeitig als Schlüsseltechnologie eingeschätzt, da sie die potentielle Möglichkeit bot, eine höhere Produktivität in allen Phasen des industriellen Produktionsprozesses zu erreichen. War also die Idee, einen ganz erheblichen Teil der Investitions- und Wirtschaftskraft der DDR für die Entwicklung der Mikroelektronik einzusetzen, eine Fehlentscheidung? War Aufbau der Mikroelektronik in der DDR tatsächlich nur Prestigeobjekt einiger Mitglieder des Politbüros?

Vor der detaillierten Darstellung der Geschichte des Halbleiterwerkes Frankfurt (Oder) werden im Buch "Halbleiter aus Frankfurt" zunächst  diese Fragen untersucht. Dazu war es notwendig, den Stand der DDR-Halbleiterindustrie zum Ende der 80er Jahre im internationalen Vergleich festzustellen. Weiterhin wurde in diesem Buch dargestellt, unter welchen Randbedingungen die mikroelektronische Industrie der DDR aufgebaut wurde.

Und schließlich war die Frage zu klären: War die DDR zu klein für ihre Mikroelektronik?

Der Mittelbau des HFO in den 60er Jahren 

(Foto: HFO)

Kapitel 2

Versucht man die Position der Mikroelektronikindustrie einer Volkswirtschaft im internationalen Vergleich einzuschätzen, so wird man feststellen, dass es für einen solchen Vergleich sehr verschiedene Maßstäbe gibt. Oft wird der erreichte technologische Stand bei der Herstellung von Speicherschaltkreisen, den sogenannten DRAM-Bauelementen (Dynamic Random Access Memory),  als Vergleichsmaßstab verwendet.
Weitere, technologisch und ökonomisch orientierte Kenngrößen zur Einschätzung des Entwicklungsstandes einer Mikroelektronikindustrie sind:
  • der verwendete Scheibendurchmesser,
  • die verwendete Reinraumklasse,
  • die verwendete Masken- und Belichtungstechnik,
  • das Technologieniveau, d.h. die minimal realisierbare Strukturbreite sowie
  • die Scheibenkapazität und die Durchlaufzeit.
In Kapitel 2 wird der 1989 erreichte Stand der DDR Mikroelektronik  an Hand  dieser Kenngrößen eingeschätzt, sowohl im Vergleich zu den damaligen sozialistischen Staaten als auch zu den westlichen Industriestaaten.

Entwicklung des Waferdurchmessers im HFO: von 25 über 36, 51, 76 bis zu 100 mm
(Foto: Jörg Berkner)
Kapitel 3

Die Geschichte der Halbleiterproduktion in Frankfurt (Oder) begann mit der Aufnahme der Produktion von Glasdioden am 2.Januar 1958 in der Frankfurter Berufsschule „Thomas Müntzer“. Die offizielle Gründung des Halbleiterwerkes Frankfurt (Oder) als juristisch selbständiger Betrieb erfolgte dann zum 1.Januar 1959. In  Kapitel 3 wird die Entwicklung des Werkes in den 60er, 70er und 80er Jahren verfolgt. Dabei werden insbesondere solche Punkte betrachtet, wie die Bauinvestitionen, die Entwicklung der Beschäftigtenanzahl und die Produktionsergebnisse. In weiteren Abschnitten werden das Bauelementespektrum, die Konsumgüterproduktion und die sozialen Einrichtungen des Halbleiterwerkes dargestellt. Dazu gehörten der Berufsverkehr, die Betriebspoliklinik, die Betriebskindergärten und die Betriebsschule des HFO. Auch die Betriebszeitung "Kristallspiegel" wird nicht vergessen.

Die Entwicklungsgeschichte der im HFO bei der Halbleiterproduktion angewendeten Technologien wird in diesem Kapitel nur kurz im Überblick dargestellt - der interessierte Leser findet eine detaillierte Darstellung dieser interessanten Technikgeschichte in Kapitel 7 unter dem Titel „Kurze Historie der Halbleitertechnologie“.

Entwurf für den Bau des Halbleiterwerkes aus dem Jahre 1960.  (Abbildung: Neuer Tag, Januar 1961, Repro: Jörg Berkner)
Kapitel 4

Kapitel 4 gibt einen Überblick zur Entwicklung des Halbleiterwerkes  von 1990 bis zur Gegenwart.

Die Geschichte der Entwicklung des Halbleiterwerkes nach der Wende ist eine Geschichte von der Suche nach Investoren, von immer neuen Konzepten zur Privatisierung, von immer neuen Direktoren, von kontinuierlichem Arbeitsplatzabbau, vom Engagement der Belegschaft und von enttäuschten Hoffnungen.

Die Liste der in den Jahren nach 1990 in der Öffentlichkeit bekannt gewordenen scheinbaren, potentiellen oder wirklichen Investoren für das Halbleiterwerk ist lang.

Noch länger aber ist die Liste der angekündigten wichtigen Entscheidungstermine und der vergeblichen Hoffnungen der Mitarbeiter. Viele haben im Laufe der Jahre die Konsequenz gezogen und sind abgewandert, in andere Bundesländer oder in andere Branchen.

In Kapitel 4 wird die Entwicklung der HFO-Nachfolgebetriebe rekapituliert: von  PTC über MTG, HEG, SMI,  SIMI und MD&D bis zu MEGAXESS.

Die  HFO-Nachfolgefirma SMI hatte ihren Sitz  in dem 1989 
als Montagewerk errichteten Gebäude. 
(Foto: Jörg Berkner)

Kapitel 5

Am 7. Februar 2001 erschien die Märkische Oderzeitung mit der aufsehenerregenden Schlagzeile: “Frankfurt zieht das große Los: Chip-Fabrik mit 1500 Arbeitsplätzen“.  

Die Reaktionen auf die Ankündigung des Großprojektes waren in Frankfurt durchweg positiv. Auf Grund der Schließung des Halbleiterwerkes und anderer Industriebetriebe bewegte sich die Arbeitslosigkeit in Frankfurt (Oder) seit Jahren auf hohem Niveau: 18 % waren es im Januar 2001. Durch Wegzug sank die Einwohnerzahl der Stadt kontinuierlich.  Ein Jahr nach Bekanntgabe des Projektes waren schon 4500 Bewerbungen bei der Communicant AG eingegangen, was den enormen Bedarf an Arbeitsplätzen in der Region verdeutlicht. Die Ankündigung des Baues der neuen Chip-Fabrik brachte wieder Hoffnung in die Stadt.

Leider konnte das Projekt Chipfabrik nicht erfolgreich beendet werden. Knapp drei Jahre nach dem hoffnungsvollen Beginn erschien die Frankfurter Lokalzeitung am 28. November 2003 mit der Schlagzeile: „Potsdam ohne Hoffnung. Aus für die Chip-Fabrik“.  Der Brandenburger Wirtschaftsminister Ulrich Junghans hatte zuvor mitgeteilt, er könne nicht mehr damit rechnen, dass das Projekt Chip-Fabrik fortgeführt wird. Erschwerend zu neuen Forderungen des Bundes war aus Brüssel die Forderung einer neuerlichen Zertifizierung der Beihilfen durch die EU hinzugekommen.

Der Rohbau der Communicant-Chipfabrik an der A12 wurde nicht mehr fertiggestellt. 
(Foto: Jörg Berkner)

Kapitel 6

Was bleibt nach dem Scheitern des Projektes Chip-Fabrik übrig vom traditionellen Mikroelektronikstandort Frankfurt (Oder)? Dieser Frage wird in Kapitel 6 nachgegangen. Es bleibt das 1983 gegründete Institut für Halbleiterphysik (IHP) - die neue Interpretation dieses Kürzels lautet „Innovations for High Performance Microelectronics / Institut für innovative Mikroelektronik“.  Es bleiben auch zwei Design-Firmen, die mit dem Entwurf von integrierten Schaltkreisen ihr Geld verdienen: Gärtner Electronic Design und alpha microelectronics.

Auf dem Gelände des ehemaligen Halbleiterwerkes befindet sich heute das Technologie- und Gewerbecenter (TeGeCe), auf dem ca. 50 kleine Firmen unterschiedlichster Ausrichtung ihrer Sitz haben. Darunter befinden sich auch solche, die zur  Mikroelektronik-Branche gehören: die Frankfurter Industrieservice GmbH (FIS), das Institut für Solartechnologien (IST), die Microelectronic Assembly Frankfurt (Oder) GmbH und die Microtechnology Services Frankfurt (Oder) GmbH (MSF).


Auf dem HFO-Gelände befindet sich heute das Technologie- und Gewerbecenter TeGeCe. Die Hallen 2, 3, 5 und 6, das AMD-Gebäude, die Speisesäle 1 und 2, die Küche und andere Gebäude  wurden abgerissen.
(Foto: TeGeCe , mit freundlicher Genehmigung)
Kapitel 7

Die Technologie zur Herstellung von Halbleiterbauelementen wurde in den vergangenen fünfzig Jahren ständig weiterentwickelt. Heute gehören die Verfahren, mit denen in den 50er, 60er und 70er Jahren gearbeitet wurde, schon zur Technikgeschichte. Für den technisch interessierten Leser werden daher im Kapitel 7 einige der technologischen Verfahren in allgemeinverständlicher Form dargestellt, die im Halbleiterwerk Frankfurt (Oder) bei der Herstellung von Transistoren und Schaltkreisen angewendet wurden. 

Montage eines Chips in ein Keramikgehäuse: Trägerstreifenelement (a), untere Gehäusehälfte mit Chip (b), Trägerstreifenelement mit unterer Gehäusehälfte und Chip (c), fertiges Gehäuse (d)
(Foto: Jörg Berkner)

Anhang

Im Anhang findet der interessierte Leser
- Angaben zur wirtschaftlichen Situation der DDR 1950
- Angaben zum Warenaustausch DDR - UdSSR
- eine Übersicht zu den Kombinaten  des Ministeriums E-Technik und Elektronik
- Angaben zum Stand der BRD-Halbleiterindustrie 1990
- eine Zeittafel zur Geschichte des HFO
- eine Übersicht zur Nutzung der Hallen 2, 3, 4 und 5
(c) Jörg Berkner